特許
J-GLOBAL ID：200903061458463829
有効屈折率法を用いたブレーズド位相型回折光学素子及びその製造方法
出願人/特許権者：
科学技術振興事業団
科学技術振興事業団 について
代理人 (1件)： 三枝 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-318217
出願日： 2000年05月08日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 簡便にしかも精度良く製造することができる位相型回折光学素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。基板上にレジスト層を形成し、該レジスト層上に電子ビーム又はレーザーを照射した後、該レジスト層を現像することにより一部のレジスト層を除去した凹凸面を形成し、該凹凸面に金属層を形成した後、レジスト層を金属層と共にリフトオフし、リフトオフ後の面をエッチングすることにより、凹凸部を形成する位相型回折光学素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
異なる位相変調能を有する単位パターンを面状に多数配置したランダムな位相分布を有する位相型回折光学素子であって、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により位相変調能を有するように構成され、前記凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされていることを特徴とする位相型回折光学素子。
Fターム (6件)：
引用特許：
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