特許

J-GLOBAL ID：200903061488784662

導電膜およびその製造方法

発明者： 亀島 久光
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132451
公開番号（公開出願番号）：特開2003-331654
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：

【要約】【課題】本発明は、簡便及び安価に製造可能、目視での確認が困難、且つ、透光性を有する、導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 基材上に、基材上に、湿式塗布法により、粒径10μm以下の微粒子を含んだ塗液を塗布後、乾燥及び/または硬化させることにより、溝幅が10μm以下のメッシュ状となっているクラックを有するクラック層を形成する工程、ついで導電性物質を含んだ溶液、分散液またはペーストを、クラック層表面に湿式塗布し、乾燥及び/または硬化させることにより、該クラック層のメッシュ状クラックの溝内部に導電性物質を充填する工程、を有することを特徴とする導電膜およびその製造方法を提供するものである。

請求項（抜粋）：

基材と、該基材上に形成された、溝幅が10μm以下であるメッシュ状のクラックを有するクラック層と、前記クラックの溝内部に充填された導電性物質とからなり、可視光透過率が30%以上であることを特徴とする導電膜。

IPC (6件)：

H01B 5/14 ,  B32B 7/02 104 ,  H01B 13/00 503 ,  H01B 13/00 ,  H01L 31/04 ,  H01M 14/00

FI (8件)：

H01B 5/14 A ,  H01B 5/14 B ,  B32B 7/02 104 ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 13/00 503 D ,  H01M 14/00 P ,  H01L 31/04 H ,  H01L 31/04 M

Fターム (61件)：

4F100AA17B ,  4F100AA19B ,  4F100AA20B ,  4F100AA21B ,  4F100AA25B ,  4F100AA28B ,  4F100AA29B ,  4F100AB01B ,  4F100AB02B ,  4F100AB10B ,  4F100AB13B ,  4F100AB15B ,  4F100AB16B ,  4F100AB17B ,  4F100AB18B ,  4F100AB21B ,  4F100AB22B ,  4F100AB23B ,  4F100AB24B ,  4F100AK12B ,  4F100AK25B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100DD02B ,  4F100DE01B ,  4F100GB90 ,  4F100JG01 ,  4F100JG01B ,  4F100JN01 ,  4F100YY00B ,  5F051CB13 ,  5F051CB27 ,  5F051FA02 ,  5F051FA03 ,  5F051FA04 ,  5F051FA06 ,  5F051FA10 ,  5F051GA03 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC03 ,  5G307FC09 ,  5G323BA01 ,  5G323BA02 ,  5G323BB02 ,  5G323BC01 ,  5G323CA02 ,  5H032AA06 ,  5H032AS06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB02 ,  5H032BB05 ,  5H032CC11 ,  5H032EE02 ,  5H032EE07 ,  5H032HH01 ,  5H032HH04 ,  5H032HH07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 透明導電膜付き基板およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-163526   出願人：住友大阪セメント株式会社
• 記録シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-202342   出願人：旭硝子株式会社
• 電磁波シールド材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-159465   出願人：株式会社巴川製紙所