特許

J-GLOBAL ID：200903061491021327

描画装置および描画方法

発明者： 三水 宏章
出願人/特許権者： 新光電気工業株式会社
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  水谷 好男 ,  伊坪 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-124895
公開番号（公開出願番号）：特開2007-298603
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】描画対象物が連続的に相対移動する間に該描画対象物が全面に亘って直接描画されるように並んだ複数の描画ヘッドを用いて、描画図形にずれが生じることのない高い描画精度を有する直接描画処理を実行する描画方法および描画装置を実現する。【解決手段】描画装置1は、描画対象物Sの搬送方向に沿って規定された走査領域ごとに割り当てられた描画ヘッド11A、11B、11Cおよび11Dと、描画ヘッド11A、11B、11Cおよび11Dとの間の描画対象物Sの搬送方向に沿った距離が、描画ヘッド全てについて同一となるようにそれぞれ設置されるセンサ12A、12B、12Cおよび12Dと、を備え、各センサ12A、12B、12Cおよび12Dが、描画対象物Sの面上に搬送方向に沿って略一定のピッチで配列されたマークを検知したときに、各センサに対応する各描画ヘッド11A、11B、11Cおよび11Dは、描画処理を実行する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

描画対象物の搬送方向に沿って規定された走査領域ごとに割り当てられた各描画ヘッドが、前記描画対象物上に設けられたマークを基準位置にして描画処理を実行することによって、連続的に搬送される前記描画対象物の全面に亘って直接描画する描画方法であって、 前記描画対象物の面上に前記搬送方向に沿って略一定のピッチで配列された前記マークを前記描画ヘッドごとに対応する各センサによって検知してから、当該描画ヘッドによる描画処理を開始するまでの時間を、前記描画ヘッド全てについて略同一にしたことを特徴とする描画方法。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (7件)：

2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BB10 ,  2H097CA03 ,  2H097DB12 ,  2H097LA09 ,  2H097LA20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-115068   出願人：ペンタックス株式会社