特許

J-GLOBAL ID：200903061512054964

新規のポリマー

発明者： シェーファー,トーマス ,  ミュレン,クラウス ,  テュルビズ,マシュー・ジェ・エール ,  バウムガルテン,マルティン
出願人/特許権者： チバ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (3件)： 津国 肇 ,  束田 幸四郎 ,  齋藤 房幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-522208
公開番号（公開出願番号）：特表2009-544832
出願日： 2007年07月18日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：

本発明は、式(I)で示される繰り返し単位を含むポリマー、及び電子素子におけるそれらの使用に関する。本発明によるポリマーは、有機溶媒における優れた溶解性及び優れた膜形成特性を有する。さらに、本発明によるポリマーをポリマー発光ダイオード(PLED)において使用する場合、高電荷キャリア移動性及び発光色の高温安定性が観察される。

請求項（抜粋）：

以下の式:

IPC (9件)：

C08G 61/10 ,  C07C 25/22 ,  C07C 43/225 ,  C07C 49/697 ,  C07C 49/753 ,  C09K 11/06 ,  H01L 51/42 ,  H01L 51/50 ,  C07D 333/28

FI (9件)：

C08G61/10 ,  C07C25/22 ,  C07C43/225 C ,  C07C49/697 ,  C07C49/753 C ,  C09K11/06 680 ,  H01L31/04 D ,  H05B33/14 B ,  C07D333/28

Fターム (26件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC03 ,  3K107CC07 ,  3K107CC24 ,  3K107CC45 ,  3K107DD61 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB92 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM73 ,  4H006BP30 ,  4H006EA23 ,  4J032CA12 ,  4J032CB01 ,  4J032CB11 ,  4J032CB12 ,  4J032CC01 ,  4J032CD02 ,  4J032CE03 ,  4J032CG02 ,  4J032CG03 ,  5F051AA11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 燐光発光ダイオードにおけるトリフェニレンホスト
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-514776   出願人：ユニバーサルディスプレイコーポレイション
• トリフェニレン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-400698   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (2件)

• 燐光発光ダイオードにおけるトリフェニレンホスト
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-514776   出願人：ユニバーサルディスプレイコーポレイション
• トリフェニレン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-400698   出願人：富士写真フイルム株式会社