特許

J-GLOBAL ID：200903037519238655

トリフェニレン化合物の製造方法

発明者： 浦添 大祐 ,  安岡 宏 ,  森 英登
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-400698
公開番号（公開出願番号）：特開2005-162628
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

【課題】 工業的規模で経済的に実施可能であり、環境に対する負荷を低減し、可能な限り廃棄物を削減しつつ、効率的かつ高収率に純度の高いトリフェニレン化合物の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表わされる1,2-ジ置換ベンゼン化合物と酸化剤を有機溶媒中で反応させるに際し、該酸化剤に対してルイス塩基性を有する非水化合物の共存下に反応を行う特定の化学式で表わされるトリフェニレン化合物の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表わされる1,2-ジ置換ベンゼン化合物を酸化剤を用いて有機溶媒中で反応させて下記一般式(2)で表わされるトリフェニレン化合物を製造するに当り、該酸化剤に対してルイス塩基性を有する非水化合物の共存下に反応をさせることを特徴とする下記一般式(2)で表わされるトリフェニレン化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C07C41/30 ,  C07C43/20 ,  C07C253/30 ,  C07C255/33

FI (4件)：

C07C41/30 ,  C07C43/20 D ,  C07C253/30 ,  C07C255/33

Fターム (12件)：

4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006BA50 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BC34 ,  4H006BE62 ,  4H006BE90 ,  4H006GP03 ,  4H006QN30 ,  4H039CA41 ,  4H039CL19

引用特許：

出願人引用 (4件)

• トリフエニレン化合物の合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-128598   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-197476   出願人：大塚化学株式会社
• ディスコチック液晶として有用な置換トリフェニレンの合成
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-501498   出願人：ザユニバーシティオブリーズ
• トリフェニレン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-400424   出願人：三協化学株式会社, 富士写真フイルム株式会社