特許
J-GLOBAL ID:200903061567582560

同調エンボス化粧シート及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光来出 良彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-139038
公開番号(公開出願番号):特開平11-320804
出願日: 1998年05月20日
公開日(公表日): 1999年11月24日
要約:
【要約】【課題】 絵柄模様層にシャープに同調した立体感にあふれ、しかも擦過傷の出来にくい同調エンボス化粧シート及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基材シート1上に着色ベタ印刷層2を形成する。次いで、該着色ベタ印刷層2上に、部分的に絵柄模様を印刷して絵柄模様層3を形成する。次いで、絵柄模様層3以外の表面に、電離放射線硬化型塗料に浸透性のインキで逆版印刷して浸透層4を形成する。次いで、絵柄模様層3上のみに電離放射線硬化型塗料に非透性のインキで印刷して抜き印刷層5を設ける。次いで、前記各工程を経た基材シートの表面に、電離放射線硬化型塗料を塗布し、電離放射線を照射してトップコート層6形成する。抜き印刷層5上のトップコート層6はそのままの膜厚で硬化し、一方、浸透層4上のトップコート層6は膜厚が薄くなり、しかも抜き印刷層5の膜厚のため各層上のトップコート層6は高低差を稼ぐことができるので、絵柄層にシャープに同調した凹凸となり、しかも耐擦過性に優れている。
請求項(抜粋):
(1)基材シート上に着色ベタ印刷層を形成し、(2)該着色ベタ印刷層上に、部分的に絵柄模様を印刷して絵柄模様層を形成し、(3)前記部分的に形成した絵柄模様層以外の表面に、電離放射線硬化型樹脂に浸透性のインキで逆版印刷して浸透層を形成し、(4)前記部分的に設けた絵柄模様層上のみに後記する電離放射線硬化型樹脂に非透性のインキで印刷して抜き印刷層を設け、(5)前記各工程を経た基材シートの表面に、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を塗布し、電離放射線を照射することにより、絵柄模様にシャープに同調した凹凸を有するトップコート層を形成させることを特徴とする同調エンボス化粧シートの製造方法。
IPC (2件):
B32B 33/00 ,  B05D 5/02
FI (2件):
B32B 33/00 ,  B05D 5/02
引用特許:
出願人引用 (2件)

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