特許

J-GLOBAL ID：200903061579132773

エキシマレーザビーム照射装置

発明者： 村上 和之 ,  中谷 元 ,  杉立 厚志 ,  皆川 忠郎 ,  八木 俊憲 ,  伊藤 慶子
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-204972
公開番号（公開出願番号）：特開平8-066781
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 多重反射されたエキシマレーザビームの強度分布が均一でなくても、均一化された適切な照射エネルギーをワークに与えることのできるエキシマレーザビーム照射装置を得る。【構成】 エキシマレーザビームL1を通過および反射させる通過部8cおよび反射部8bを有するマスク8と、反射部に対向配置されてエキシマレーザビームを多重反射させる反射手段10と、マスクを通過したエキシマレーザビームL2のパターンをワーク12上に照射するための転写レンズ11と、ワークおよびマスクを動かすためのワーク移動機構14およびマスク移動機構9と、エキシマレーザ発振器1および各移動機構を制御する制御手段16Aとを備え、制御手段は、マスクおよびワークの同期移動時のスキャン移動方向yをエキシマレーザビームの反射移動方向yと一致させる。

請求項（抜粋）：

エキシマレーザビームを出射するエキシマレーザ発振器と、前記エキシマレーザ発振器からのエキシマレーザビームを通過させる通過部および前記エキシマレーザビームを反射させる反射部を有するマスクと、前記反射部に対向配置されて前記反射部で反射されたエキシマレーザビームを前記マスクに向けて反射させる反射手段と、前記マスクを通過したエキシマレーザビームのパターンをワーク上に転写して照射するための転写レンズと、前記転写レンズの光軸に対して直角方向に前記ワークを動かすためのワーク移動機構と、前記転写レンズの光軸に対して直角方向に前記マスクを動かすためのマスク移動機構と、前記エキシマレーザ発振器、前記ワーク移動機構および前記マスク移動機構を制御するための制御手段とを備えたエキシマレーザビーム照射装置において、前記制御手段は、前記マスクおよび前記ワークを同一軸に沿って同期移動させるとともに、前記同期移動時のスキャン移動方向を、前記マスクと前記反射手段との間の前記エキシマレーザビームの反射移動方向と一致させたことを特徴とするエキシマレーザビーム照射装置。

IPC (6件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/46

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-109403   出願人：三菱電機株式会社