形状シミュレーション方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-221357
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064792
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】パターンが孤立しているか密集しているかに拘らず、現像によるレジストの2次元及び3次元形状を正確にシミュレーションする。【解決手段】基板上のレジストを所望パターンに露光した後に現像することにより変化する該レジストの形状を予測する形状シミュレ-ション方法において、レジストの密集パターン11と孤立パターン12の各位置における潜像強度又は感光剤濃度の空間平均量に応じて、該位置におけるレジストの現像速度を変化させる。

請求項（抜粋）：

基板上の被加工膜を物理的又は化学的に加工することにより変化する該被加工膜の形状を予測する形状シミュレーション方法において、前記被加工膜の所定位置における単位時間当たりの加工量及びこの加工により該被加工膜が周辺へ飛散する速度に応じて、該被加工膜の所定位置における加工速度を変化させることを特徴とする形状シミュレ-ション方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/00

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G , H01L 21/00

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平1-300253
特開平1-300253
特開平4-044312

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