特許
J-GLOBAL ID：200903061813424430
微細パターンの形成方法及び偏光分離素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 田中 克郎
, 大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-106253
公開番号（公開出願番号）：特開2006-285017
出願日： 2005年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】 型材との離型性に優れた液体材料をインプリンティングリソグラフィー法に適用することにより、高精度のパターンが得られる微細パターンの形成方法、及び該微細パターンの形成方法を用いた偏光分離素子の製造方法を提供する 【解決手段】 下記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンを含む液体材料を被加工材料表面に塗布して液体材料膜を形成する工程と、該液体材料膜を仮硬化させて仮硬化膜を形成する工程と、微細パターンが形成された型材により該仮硬化膜に該型材のパターンを転写する工程と、該被加工材料表面を完全硬化させる工程と、を備えた微細パターンの形成方法により解決する。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンを含む液体材料を被加工材料表面に塗布して液体材料膜を形成する工程と、
該液体材料膜を仮硬化させて仮硬化膜を形成する工程と、
微細パターンが形成された型材により該仮硬化膜に該型材のパターンを転写する工程と、
該被加工材料表面を完全硬化させる工程と、
を備えた微細パターンの形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H049BA05
, 2H049BA46
, 2H049BB42
, 2H049BC01
