SOGを用いた室温ナノ-インプリント-リソグラフィー

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮本晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-293718
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100609
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】能率的で、高精度のパターンが得られる室温ナノ-インプリント-リソグラフィーの提供。【解決手段】一般式Aのシロキサン成分〔RnSi(OH)4-n〕一般式A(但し、RはHまたはアルキル基、nは0〜3の整数)と溶媒としてのアルコール、エステル、ケトンまたはこれらの2種以上の混合物を主成分とする溶液を被加工材料表面に塗布後、該塗布面に室温において微細パターンの型押しをし、溶剤の除去および加水分解硬化により、または水素化シルセスキオキサンポリマーを用い、該ポリマーによる塗布膜を被加工材料表面に形成後、該塗布面を150°C以下でプリべーくした後型押しすることにより該被加工材料表面に微細SiO2パターンを形成する方法。

請求項（抜粋）：

一般式Aのシロキサン成分〔RnSi(OH)4-n〕一般式A(但し、RはHまたはアルキル基、nは0〜3の整数)と溶媒としてのアルコール、エステル、ケトンまたはこれらの2種以上の混合物を主成分とする溶液を被加工材料表面に塗布後、該塗布面に室温において微細パターンの型押しをし、溶剤の除去および加水分解硬化により該被加工材料表面に微細SiO2パターンを形成する方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , B05D 3/02 , B05D 3/12 , B05D 7/24 302 , G03F 7/075 , H01L 21/316

FI (6件)：

B05D 3/02 , B05D 3/12 C , B05D 7/24 302 Y , G03F 7/075 , H01L 21/316 G , H01L 21/30 502 D

Fターム (20件)：

2H025AA20 , 2H025CB33 , 2H025EA10 , 4D075BB06Z , 4D075BB28Z , 4D075CA23 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC21 , 4D075EA07 , 4D075EA45 , 4D075EB02 , 4D075EB56 , 5F046AA28 , 5F058BC02 , 5F058BF46 , 5F058BF47 , 5F058BH01 , 5F058BH12 , 5F058BH20

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭64-014082
シリカ系被膜形成用塗布液およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-051137 出願人：ジェイエスアール株式会社
グラフオエピタキシー用基板の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-297908 出願人：株式会社リコー

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