特許

J-GLOBAL ID：200903061826127397

スパッタリングターゲット

発明者： 黒澤 聡 ,  内海 健太郎 ,  高畑 努
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212568
公開番号（公開出願番号）：特開2000-045065
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】 既存のスパッタリング条件を大幅に変更することなく、成膜速度を向上させることができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 スパッタリングターゲットのスパッタ面のX線回折パターンと前記スパッタ面にほぼ直交する側面のX線回折パターンが実質的に同じであり、かつ、相対密度が95%以上であるターゲット材によりスパッタリングターゲットを構成する。

請求項（抜粋）：

スパッタリングターゲットのスパッタ面のX線回折パターンと前記スパッタ面にほぼ直交する側面のX線回折パターンが実質的に同じであり、かつ、相対密度が95%以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

Fターム (8件)：

4K029BA01 ,  4K029BA07 ,  4K029BA11 ,  4K029BD01 ,  4K029BD11 ,  4K029DC03 ,  4K029DC09 ,  4K029EA00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• Cr-Ti系ターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-120325   出願人：日立金属株式会社
• 特開昭63-162863
  
• Mo系ターゲット材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-210573   出願人：日立金属株式会社
• 特開昭63-162863