特許

J-GLOBAL ID：200903061910702569

プラズマエッチング装置用シリコン製リング

発明者： 藤森 周司 ,  米久 孝志
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (2件)： 富田 和夫 ,  鴨井 久太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-314017
公開番号（公開出願番号）：特開2006-128372
出願日： 2004年10月28日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：

【課題】プラズマエッチング装置に使用するシリコン製スリングを提供する。【解決手段】プラズマエッチング装置内で上部電極板と相対向する位置に設置される被エッチング物を支持するための内段14を有するシリコン製リングにおいて、前記シリコン製リングの内段14の少なくとも支持面21に耐エッチング性被膜24を形成したことを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマエッチング装置内で上部電極板と相対向する位置に設置される被エッチング物を支持するための内段を有するシリコン製リングにおいて、前記シリコン製リングの内段の少なくとも支持面に耐エッチング性被膜を形成することを特徴とするプラズマエッチング装置用シリコン製リング。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (1件)：

H01L21/302 101G

Fターム (7件)：

5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BB18 ,  5F004BB23 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマエッチング装置用フォーカスリング
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-180171   出願人：三菱マテリアル株式会社