特許

J-GLOBAL ID：200903007148252424

プラズマエッチング装置用フォーカスリング

発明者： 米久 孝志 ,  小山内 文貴
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-180171
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007090
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】プラズマエッチング装置に使用するフォーカスリングを提供する。【解決手段】最外周上端17から中心に向かって傾斜している傾斜面18を有する均一なプラズマを発生させることのできるプラズマエッチング装置用フォーカスリング。

請求項（抜粋）：

プラズマエッチング装置内で上部電極板と相対向する位置に設置される被エッチング物を支持するためのフォーカスリングにおいて、前記フォーカスリングは、最外周上端から中心に向かって傾斜している傾斜面を有することを特徴とするプラズマエッチング装置用フォーカスリング。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

H01L 21/302 C ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M

Fターム (28件)：

4K057DA20 ,  4K057DB20 ,  4K057DD01 ,  4K057DE20 ,  4K057DG07 ,  4K057DG08 ,  4K057DG12 ,  4K057DM04 ,  4K057DM08 ,  4K057DM35 ,  4K057DM37 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BA06 ,  5F004BA07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004DA16 ,  5F004DA22 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004EB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273140   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338764   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-138879   出願人：株式会社東芝
• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-166866   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社