特許
J-GLOBAL ID：200903061936372338

処理装置および処理方法

発明者：
渡辺 一生

渡辺 一生 について

, 
田中 豊彦

田中 豊彦 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-026696
公開番号（公開出願番号）：特開2005-222996
出願日： 2004年02月03日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 ガラス基板の処理装置への搬入搬出を効率的に高速に行え、しかも、ガラス基板への高精度な安定した処理が可能な処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】 処理するガラス基板を載置するための塗布ステージに、搬入および基板搬出部のウォーキングビームが進入する溝を設けるとともに、塗布ステージ上にガラス基板を点接触により支持する複数のピンを設け、また、基板搬入部および基板搬出部に、ガラス基板を移動させるコロコンベアと、ガラス基板を載置でき、前進、後退、上昇、下降が可能なウォーキングビームを設け、基板搬入部および基板搬出部のウォーキングビームを塗布ステージの溝に交互に進入させ、ガラス基板の搬入、搬出を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
塗布ステージ上に載置された基板を処理する処理装置であって、 基板を処理部ステージ上に載置する基板搬入機構と、 処理済みの基板を処理部ステージ上から搬出する基板搬出機構とを備え、 前記基板搬出機構により基板が塗布ステージ上から搬出されると、同時に、基板搬入機構が次の基板を塗布ステージ上に載置することを特徴とする処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  B65G49/06 ,  G02B5/20 ,  H01L21/68
FI (5件)：
H01L21/30 562 ,  B65G49/06 Z ,  G02B5/20 101 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/68 N
Fターム (14件)：
2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA51 ,  5F031GA52 ,  5F031HA08 ,  5F031MA26 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (1件)

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