特許

J-GLOBAL ID：200903061980537930

気体分離複合膜における気体分離層の膜厚の均一性向上方法

発明者： 辻葩 一 ,  田原 和時 ,  川口 利行
出願人/特許権者： 信越ポリマー株式会社
代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-180192
公開番号（公開出願番号）：特開2005-193224
出願日： 2004年06月17日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

【課題】 多孔質支持体上にポリイミドの薄膜からなる気体分離層を形成させて気体分離複合膜を得るに当たり、展延剤を用いなくても膜厚の均一性の高い気体分離層を形成可能な方法を提供すること。【解決手段】 多孔質支持体上にポリイミドの薄膜からなる気体分離層を形成させて気体分離複合膜を得るに当たり、当該気体分離層の膜厚の均一性を向上させる方法であって、前記ポリイミドとして、水面上に展開したときに自己組織化して薄膜を形成する、オルガノポリシロキサン骨格を有するポリイミドを用い、自己組織化により水面上に薄膜化させた当該ポリイミドを前記多孔質支持体上に積層することを特徴とする方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

多孔質支持体上にポリイミドの薄膜からなる気体分離層を形成させて気体分離複合膜を得るに当たり、当該気体分離層の膜厚の均一性を向上させる方法であって、 前記ポリイミドとして、水面上に展開したときに自己組織化して薄膜を形成する、オルガノポリシロキサン骨格を有するポリイミドを用い、自己組織化により水面上に薄膜化させた当該ポリイミドを前記多孔質支持体上に積層することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

B01D71/70 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/58

FI (4件)：

B01D71/70 500 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/58

Fターム (19件)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA08 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC58X ,  4D006MC65X ,  4D006NA01 ,  4D006NA45 ,  4D006PA02 ,  4D006PB17 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PC71

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭56-026504号公報
  
• 気体分離複合膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-037648   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (2件)

• 物質分離用複合膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-165319   出願人：住友ベークライト株式会社
• 特開平1-284321