特許
J-GLOBAL ID：200903061984477516
レーザープラズマX線源用標的
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-315446
公開番号（公開出願番号）：特開平7-167998
出願日： 1993年12月15日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 発生するX線が短波長域から長波長域まで広範囲に渡って連続的であり、またX線強度の波長依存性が小さくて連続スペクトルに近く、さらに長時間連続使用できるレーザープラズマX線源用標的を提供すること。【構成】 レーザーを照射すると、プラズマを発生してX線を放出するレーザープラズマX線源用標的において、前記標的は、巻き取り可能な基板201 上に、原子量150以上の元素からなる材料202 を真空薄膜形成法により層状に形成してなることを特徴とするレーザープラズマX線源用標的。
請求項（抜粋）：
レーザーを照射すると、プラズマを発生してX線を放出するレーザープラズマX線源用標的において、前記標的は、巻き取り可能な基板上に、原子量150以上の元素からなる材料を真空薄膜形成法により層状に形成してなることを特徴とするレーザープラズマX線源用標的。
IPC (4件)：
G21K 5/08
, H01L 21/027
, H01S 3/00
, H05G 2/00
H01L 21/30 531 A
, H05G 1/00 K
