特許
J-GLOBAL ID：200903061992635902

一体形成した流路構造を有するインクジェット・プリントヘッドおよびその作製方法

発明者：
ジェームズ・エフ・オニール

ジェームズ・エフ・オニール について


出願人/特許権者：
ゼロックス コーポレイション

ゼロックス コーポレイション について


代理人 (1件)： 小堀 益
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-237791
公開番号（公開出願番号）：特開平7-156409
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：
【要約】【目的】流路ウエハの正面の切断を要せずにプリントヘッド流路を閉塞し、プリントヘッド流路に一貫しない発射特性を持たせる原因となるチップ化した異物の形成をなくす熱インクジェットプリントヘッドを提供する。【構成】1つの表面がその上にモノリシックに形成された少なくとも1つの加熱要素のアレイ28とアドレス付け要素を持つ下部基板28を有するタイプのプリントヘッド10は、加熱及びアドレス付け要素を有する下部基板表面上に形成したポジティブフォトレジスト層18及びインク注入口25を有する平板31を含む。前記フォトレジスト層18は段階的マスクを通して紫外光に露光され、現像、硬化して複数の平行な流路凹部とリザーバ凹部24を形成し、各々の流路凹部20は対向する端部を有し、1つの流路凹部端部は開いてノズル27となり、他端はリザーバ凹部24と接続し、各々の流路凹部は内部にピットを有して加熱要素を露出する。
請求項（抜粋）：
1つの表面がその上にモノリシックに形成された少なくとも1つの加熱要素のアレイとアドレス付け要素を持つ下部基板を有するタイプの、次のものを含むインクジェットプリンタ用一体式プリントヘッド:加熱及びアドレス付け要素を有する下部基板表面上に形成したポジティブフォトレジスト層であって、前記フォトレジスト層は段階的マスクを通して紫外光に露光し、現像、硬化して複数の平行な流路凹部とリザーバ凹部を形成し、各々の流路凹部は対向する端部を有し、1つの流路凹部端部は開いてノズルとなり、他端はリザーバ凹部と接続し、各々の流路凹部は内部にピットを有して加熱要素を露出するもの;およびインク注入口を有する前記フォトレジスト層に接合する平板であって、前記平板は下部基板上のフォトレジスト層内の凹部を被覆して、リザーバ、ピットを有する流路、ノズルを含むインク流誘導構造を提供し、前記インク注入口は前記リザーバと連通しているもの。
IPC (2件)：
B41J 2/05 ,  B41J 2/16
FI (2件)：
B41J 3/04 103 B ,  B41J 3/04 103 H
引用特許：
審査官引用 (4件)
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