特許

J-GLOBAL ID：200903061995982280

光走査装置

発明者： 赤津 和宏
出願人/特許権者： 日立工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-213472
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052263
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】複数ビ-ム走査を用いるレーザービ-ムプリンタ等で走査ピッチの調整を容易にすること。また、印刷ドット密度を所定の値に変換できる光走査装置を得ること。【解決手段】光ビ-ム発生手段と回転多面鏡の間に配置した焦点距離可変レンズと、偏向走査された複数のビ-ム光の走査直角方向の距離を検知する検知器とを設け、走査ビ-ムスポット間の距離が所定の値になるように、上記検知器からの信号に基づいて焦点距離可変レンズの焦点距離を変える。また、外部からの信号に応じて焦点距離可変レンズの焦点距離を変えるとともに、回転多面鏡の回転数と、複数ビ-ムの変調周波数とを変えて所定の印刷ドット密度に変更する。

請求項（抜粋）：

独立に光強度変調が可能な複数の光ビ-ム発生手段と、この発生手段から出射した複数の光ビ-ムを一括して偏向走査する回転多面鏡と、走査面上で各ビ-ムを所定のスポット径に収束させるFθレンズとを備えた光走査装置において、光ビ-ム発生手段と回転多面鏡の間に配置した焦点距離可変レンズと、偏向走査された複数のビ-ム光の走査直角方向の距離を検知する検知器とを設け、走査ビ-ムスポット間の距離が所定の値になるように、上記検知器からの信号に基づいて前記焦点距離可変レンズの焦点距離を変えることを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  H04N 1/113 ,  H04N 1/387 101

FI (4件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 Z ,  H04N 1/387 101 ,  H04N 1/04 104 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-006995   出願人：日立工機株式会社
• レーザー走査光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-224525   出願人：キヤノン株式会社
• 変位センサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-208897   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開平3-059404