特許
J-GLOBAL ID：200903062026737444
エッチング方法及びその方法によって成形されたエッチング成形品
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-193741
公開番号（公開出願番号）：特開2004-040399
出願日： 2002年07月02日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】水晶基板等の被成形物の外形及び溝部を成形するためのエッチング方法に対し、被成形物に対するエッチング回数の削減を図る。【解決手段】水晶基板2をエッチング処理して、主面中央部に溝部11c,12cを備えた音叉型水晶ウェハ1Aを成形するに際し、溝部11c,12cに相当する部分ではCr膜31のみを存在させ、溝部11c,12cに相当する部分以外の領域であって音叉型水晶ウェハとなるべき部分ではCr膜31とAu膜32の2層を存在させる。「外形エッチング動作」の開始後、単層で存在するCr膜31が溶融除去された後に、「溝部エッチング動作」が「外形エッチング動作」と並行される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被成形物をエッチング処理することによって、所定の外形形状及び溝部を有するエッチング成形品を成形するために、上記被成形物に対し、成形しようとするエッチング成形品の外縁よりも外側の領域をエッチングにより除去する「外形エッチング動作」と、被成形物上における溝部成形領域をエッチングにより凹陥させる「溝部エッチング動作」とを実行するエッチング方法であって、
上記溝部成形領域の表面のみにエッチング遅延膜を予め存在させた状態で被成形物に対するエッチング処理を実行し、「外形エッチング動作」の開始後、この外形エッチングと共にエッチング遅延膜が溶融し、このエッチング遅延膜が溶融除去された後に、上記「溝部エッチング動作」が開始されることを特徴とするエッチング方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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