特許
J-GLOBAL ID:200903062042925730
オゾン注入制御装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-107951
公開番号(公開出願番号):特開平9-290279
出願日: 1996年04月26日
公開日(公表日): 1997年11月11日
要約:
【要約】【課題】 オゾン接触槽内にオゾンを注入する際、損失なく最適なオゾン注入制御を行なうこと。【解決手段】 オゾン接触槽1内にオゾン発生装置2からオゾンが供給される。オゾン発生装置2からのオゾン濃度およびオゾン流量は、制御器3により、オゾン注入速度A=注入オゾン濃度P<SB>in</SB>×注入オゾン流量Q<SB>g </SB>の場合、最小P<SB>in</SB><P<SB>in</SB><最大P<SB>in</SB>最小Q<SB>g </SB><Q<SB>g </SB><最大Q<SB>g</SB>を満たし、かつP<SB>in</SB>が最大P<SB>in</SB>に近づくよう制御される。
請求項(抜粋):
被処理水が流入するオゾン接触槽へ供給されるオゾンの濃度と流量を制御するオゾン注入制御装置において、オゾン注入制御装置は、オゾン注入速度A=注入オゾン濃度P<SB>in</SB>×注入オゾン流量Q<SB>g </SB>の場合、最小P<SB>in</SB><P<SB>in</SB><最大P<SB>in</SB>最小Q<SB>g </SB><Q<SB>g </SB><最大Q<SB>g</SB>を満たし、かつP<SB>in</SB>が最大P<SB>in</SB>に近づくよう制御することを特徴とするオゾン注入制御装置。
引用特許:
前のページに戻る