特許
J-GLOBAL ID：200903062054902310
フォトマスク及びフォトマスクブランク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-323260
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160853
出願日： 1997年11月25日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスクを用いてウェハー上に投影露光する際にウェハー面及びマスク面で反射した不必要な光に起因する転写精度の劣化を防止し、転写パターンの解像力を向上させることができるフォトマスクを提供することである。【解決手段】 フォトマスクの遮光パターン2aが形成された面に、露光光に対する透明性基板の屈折率nS よりも大きく、遮光パターン2aを形成している遮光膜の屈折率nC よりも小さな屈折率nを有する薄膜4、5が形成されており、薄膜4、5の膜厚dは(式1)を満たすようにしたものである。
請求項（抜粋）：
透明性基板上に露光光を透過しない遮光膜をパターン化してなる遮光パターンを有するフォトマスクにおいて、前記遮光パターンが形成された面に、前記露光光に対する前記透明性基板の屈折率nS よりも大きく、前記遮光膜の屈折率nCよりも小さな屈折率nを有する薄膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/14 F
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
