特許

J-GLOBAL ID：200903062059848896

基板処理装置

発明者： 松永 正隆 ,  宮田 亮 ,  道木 裕一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-186075
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007587
出願日： 2001年06月20日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 露光処理が行われてから加熱処理が行われるまでの時間を一定に保ち、基板上に形成される回路パターンの線幅を一定に保つことができる基板処理装置の提供。【解決手段】 ウエハWが露光装置203におけるアウトステージ203b→ウエハ搬送体206→受け渡しユニットTRS→ウエハ搬送体204→ポストエクスポージャーベーキングユニット(PEB)の温調・搬送装置C→ポストエクスポージャーベーキングユニット(PEB)の熱処理装置Hに至るまでの時間Tがほぼ一定となるような時間制御を行っている。

請求項（抜粋）：

基板に対して少なくとも現像処理を行う基板処理装置において、露光装置により露光され、現像処理前の基板を加熱処理する加熱処理部と、前記加熱処理部と前記露光装置との間に配置され、前記加熱処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うインタフェース部と、前記露光装置から受け渡された基板を、前記インタフェース部を介して前記加熱処理部に搬送し、前記加熱処理部により基板の加熱処理を開始するまでの時間がほぼ一定となるように制御する制御手段とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 568

Fターム (51件)：

2H096AA25 ,  2H096FA01 ,  2H096FA10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA04 ,  5F031GA36 ,  5F031GA42 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA57 ,  5F031HA59 ,  5F031HA60 ,  5F031JA01 ,  5F031JA05 ,  5F031JA22 ,  5F031JA27 ,  5F031JA32 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA17 ,  5F031NA18 ,  5F031PA03 ,  5F031PA11 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板受け渡し装置及び塗布現像処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-182000   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 搬送方法及び搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046413   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-188034   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理方法、レジスト処理方法及びレジスト処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-023074   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社