特許
J-GLOBAL ID：200903062079415287
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 小林 龍
, 下道 晶久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-268172
公開番号（公開出願番号）：特開2009-097928
出願日： 2007年10月15日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：
【課題】試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。【解決手段】試料2の表面に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検査装置1は、撮像部13により撮像された撮像画像上にて検出された欠陥候補のサイズが撮像部13の結像光学系の解像限界よりも小さく、かつ欠陥候補を示す欠陥候補画素の周囲の画素からこの欠陥候補画素までのグレイレベル値の空間的変化が結像光学系の解像力を超えているとき、この欠陥候補を疑似欠陥として判定する疑似欠陥判定部31を備える。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
試料の表面に形成されたパターンを所定の撮像装置によって撮像して取得された撮像画像を所定の検査方法に従って検査することにより、前記試料の表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検査装置であって、
前記撮像画像上にて検出された欠陥候補のサイズが前記所定の撮像装置の結像光学系の解像限界よりも小さく、前記欠陥候補を示す欠陥候補画素の周囲の画素からこの欠陥候補画素までのグレイレベル値の空間的変化が前記結像光学系の解像力を超えているとき、この欠陥候補を疑似欠陥として判定する疑似欠陥判定部を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EB09
, 2G051ED08
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB21
, 4M106DJ14
, 4M106DJ18
, 4M106DJ28
