特許
J-GLOBAL ID:200903062103438234

光学素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 古谷 史旺 ,  森 俊秀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-332888
公開番号(公開出願番号):特開2007-136822
出願日: 2005年11月17日
公開日(公表日): 2007年06月07日
要約:
【課題】 本発明は、光学特性の正確なポリマー多層膜を製造することを目的とする。【解決手段】 本発明の製造方法は、屈折率の異なるポリマー材料を積層し、n層(n≧2)からなるポリマー多層膜を形成する製造方法であって、次の工程を少なくとも備える。まず、m層(1≦m 請求項(抜粋):
屈折率の異なるポリマー材料を積層し、n層(n≧2)からなるポリマー多層膜を形成する製造方法であって、 m層(1≦m IPC (3件):
B29D 11/00 ,  G02B 5/28 ,  G02B 1/11
FI (3件):
B29D11/00 ,  G02B5/28 ,  G02B1/10 A
Fターム (18件):
2H048GA05 ,  2H048GA12 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62 ,  2K009AA05 ,  2K009CC21 ,  2K009CC38 ,  2K009DD02 ,  2K009DD09 ,  2K009EE00 ,  4F213AH73 ,  4F213AP20 ,  4F213AR12 ,  4F213WA03 ,  4F213WA12 ,  4F213WA43 ,  4F213WB01
引用特許:
出願人引用 (1件)

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