特許
J-GLOBAL ID:200903062176536811

照明装置、投影露光装置及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-232682
公開番号(公開出願番号):特開2003-045784
出願日: 2001年07月31日
公開日(公表日): 2003年02月14日
要約:
【要約】【課題】 光源からの波長200nm以下の光で照明条件を変更可能な照明装置、露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法を提供することにある。【解決手段】 光源からの波長200nm以下の光で被照明領域を照明する照明装置、露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法であって、第1の反射型インテグレータと、前記光源からの光を前記第1の反射型インテグレータに入射させる第1光学系と、該第1の反射型インテグレータからの複数の光束を前記被照明面上に重ねる第2光学系とを有し、該第1光学系は前記第1の反射型インテグレータに入射する光の径及び/又は形状を可変とする手段を備える照明装置、露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
光源からの波長200nm以下の光で被照明面を照明する照明装置であって、第1の反射型インテグレータと、前記光源からの光を前記第1の反射型インテグレータに入射させる第1光学系と、前記第1の反射型インテグレータからの複数の光束を前記被照明面上に重ねる第2の光学系とを有し、前記第1光学系は前記第1の反射型インテグレータに入射する光の径及び/又は形状を可変とする手段を備える照明装置。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  G02B 5/10 ,  G02B 17/00 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521
FI (8件):
G02B 5/10 A ,  G02B 5/10 C ,  G02B 17/00 A ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 A
Fターム (30件):
2H042DA08 ,  2H042DA09 ,  2H042DB02 ,  2H042DB13 ,  2H042DD06 ,  2H042DD08 ,  2H042DD10 ,  2H042DE04 ,  2H052BA03 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H087KA21 ,  2H087KA29 ,  2H087NA04 ,  2H087TA00 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  5F046BA05 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10
引用特許:
審査官引用 (1件)

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