特許
J-GLOBAL ID：200903062181952963
プラズマから静電チャックを保護する磁石を有するプラズマ反応装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267394
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183285
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ反応装置において、プラズマによるウエハ保持のための静電チャックおよびウエハ周縁部裏側の損失という問題を解決すること。【構成】 プラズマ反応装置において、ウエハの周縁近くにある石英側壁内に磁石を設けることにより、プラズマによる静電チャックおよびウエハ周縁裏側への攻撃による損失という問題を軽減することができた。
請求項（抜粋）：
半導体基板を処理するためののプラズマ反応装置において、前記反応装置内に置かれる前記基板を保持する装置であって、上記基板の周辺を、円周状のすきまをもって取り囲む側壁と、上記基板を保持するための静電チャックと、上記円周状のすきまの回りに設けた磁石からなる装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/68
