特許

J-GLOBAL ID：200903062194288248

回転式基板乾燥装置および基板乾燥方法

発明者： 谷口 由雄 ,  田中 悟
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-222634
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064875
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 基板の乾燥能力を低下させることなく、大型化と共に薄型化した基板の回転による破損やミストの基板への再付着による汚染を防止する。【解決手段】 駆動モータ25でノズル27先端の吐出口を基板2の回転中心部上から外側方向に移動させつつ基板2の主面にノズル27から気体を吹き付けて、遠心力が働きにくい基板2の回転中心付近に残った処理液などを遠心力がより働く基板2の外側に掃き出すことで、処理液などを遠心力で振り切る乾燥能力が向上可能となる。したがって、遠心力による乾燥能力を低下させることなく、基板2の回転数をより低く設定することができるので、大型化した基板2であっても基板2の回転に伴う気流の発生も少なくでき、ミストの基板への再付着も抑制される。また、基板2の回転数を低く設定できるので、大型化した基板2であっても回転時にかかる基板2へのストレスも低減され得る。

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつ、前記基板の主面にノズルから気体を吹き付けて基板を乾燥させる回転式基板乾燥装置において、気体を吐出している前記ノズルの吐出口を少なくとも前記基板の回転中心部から外側方向に移動可能なノズル移動機構を有していることを特徴とする回転式基板乾燥装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 ,  B08B 5/02 ,  F26B 5/08

FI (4件)：

H01L 21/304 361 S ,  H01L 21/304 361 H ,  B08B 5/02 A ,  F26B 5/08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 乾燥方法及び乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-020438   出願人：東京応化工業株式会社