特許
J-GLOBAL ID：200903062205404130
カーボンナノチューブ薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
中村 智廣
, 成瀬 勝夫
, 小泉 雅裕
, 青谷 一雄
, 鳥野 正司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-371532
公開番号（公開出願番号）：特開2006-176362
出願日： 2004年12月22日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】 使用するカーボンナノチューブが官能基を有するか否かに関わらず、均質なカーボンナノチューブ薄膜を容易に製造することが可能なカーボンナノチューブ薄膜の製造方法を提供すること。さらに、任意の基板表面にカーボンナノチューブ薄膜を直接形成することができるカーボンナノチューブ薄膜の製造方法を提供すること。【解決手段】 カーボンナノチューブ2とイオン性液体とを含む混合液を製膜用液体4の液面に滴下し、当該液面上にカーボンナノチューブ2を展開する、滴下工程を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ薄膜の製造方法であり、好ましくは、前記混合液の液面上に展開されたカーボンナノチューブ2の薄膜を、液面と平行方向(矢印A方向)に圧縮する圧縮工程、および/または、製膜用液体4の液面上に展開・圧縮されたカーボンナノチューブ2の薄膜を引き上げる、引上工程を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
カーボンナノチューブとイオン性液体とを含む混合液を製膜用液体の液面に滴下し、当該液面上にカーボンナノチューブを展開する、滴下工程を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 31/02
, B05D 1/30
, B82B 3/00
C01B31/02 101F
, B05D1/30
, B82B3/00
4D075AC11
, 4D075AC84
, 4D075AC88
, 4D075EB01
, 4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146CA02
, 4G146CA11
, 4G146CB03
, 4G146CB10
, 4G146CB12
, 4G146CB17
, 4G146CB35
, 4G146CB39
, 4G146DA07
