特許

J-GLOBAL ID：200903062236471706

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 皿井 康雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-061650
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273714
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】作業工数が少なくして稼働率を向上させる基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法を提供すること。【解決手段】長アーム91a、91bには、吸着パッド95a〜95jが設けられている。吸着パッド95a〜95jは、それぞれ接続管139a〜139jを介して配管138a〜138jに接続されている。配管138a〜138jは真空ポンプ136a〜136jに接続される。接続管139a〜139jには、吸着パッド95a〜95jの吸着圧をそれぞれ個別に測定する圧力センサ131a〜131jが設けられている。また、接続管139a〜139jには、吸着パッド95a〜95jの吸着圧をそれぞれ個別に調整する圧力制御バルブ135a〜135jが設けられている。これにより吸着パッドごとに独立して基板Gを真空吸着することができる。【選択図】 図11

請求項（抜粋）：

基板の周縁部の少なくとも一部を保持する保持部材と、 前記保持部材に設けられ、基板を保持するために圧力差で基板を吸着する複数の吸着部と、 前記吸着部ごとにそれぞれ独立して前記圧力差を発生させる圧力差発生機構と を具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/68 ,  B65G49/06 ,  H01L21/027

FI (3件)：

H01L21/68 B ,  B65G49/06 A ,  H01L21/30 562

Fターム (34件)：

5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA24 ,  5F031GA32 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA02 ,  5F031JA10 ,  5F031JA21 ,  5F031JA32 ,  5F031JA47 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031PA08 ,  5F031PA13 ,  5F046CD01 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-289383   出願人：キヤノン株式会社
• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-084098   出願人：株式会社東芝