特許
J-GLOBAL ID:200903064115491745
ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
丸島 儀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289383
公開番号(公開出願番号):特開平11-226823
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 1999年08月24日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 より大きな加速度やより大型の基板にも対応てきる保持機構を備えたステージ装置を提供すること。【解決手段】 基板101を保持して所定方向に移動するステージと、該ステージの移動時の加速度に応じた力を、該加速度の方向から基板に作用させる機構を設けたことを特徴とする。ここで前記機構がステージの移動方向成分を含む方向に移動自在なカウンタマス102と、該カウンタマスによるモーメントを前記基板に作用させる部材とを有する。さらに前記部材はヒンジ機構105で支持されたレバー103を有し、該レバーの一端はカウンタマス102に接続され、他端によって基板の一辺に力を付加する。
請求項(抜粋):
基板を保持して所定方向に移動するステージと、該ステージの移動時の加速度に応じて変化する力を、該加速度の方向から基板に作用させる機構とを備え、該ステージの加速度に伴って基板に作用する力を相殺する力を該基板に作用させることを特徴とするステージ装置。
IPC (4件):
B23P 19/00 302
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H01L 21/68
FI (7件):
B23P 19/00 302 H
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68 K
, H01L 21/30 503 A
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 515 G
, H01L 21/30 516 B
引用特許:
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