特許

J-GLOBAL ID：200903062248571633

積層体、ポリマー-金属複合材料の作製方法及びそれにより得られた紫外光吸収フィルム、赤外光吸収フィルム、フォトマスク、電磁波シールドフィルム、導電性材料、プリント配線板及び薄層トランジスタ。

発明者： 松下 泰明
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-068338
公開番号（公開出願番号）：特開2009-220450
出願日： 2008年03月17日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：

【課題】任意の基材表面に金属材料を固定化しうるポリマー-金属複合材料の形成に有用な、金属材料への吸着性を有するポリマーを高感度で形成しうる積層体、及び、それを用いたポリマー-金属複合材料の作製方法、それにより得られた、紫外線吸収フィルム、赤外線吸収フィルム、フォトマスク、電磁波シールドフィルム、導電性材料、プリント配線板及び薄層トランジスタを提供する。【解決手段】ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、この順に積層した積層体。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、 該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、 高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、 この順に積層した積層体。

IPC (5件)：

B32B 27/16 ,  G03F 1/08 ,  H05K 1/09 ,  H05K 9/00 ,  G02B 5/22

FI (5件)：

B32B27/16 ,  G03F1/08 G ,  H05K1/09 A ,  H05K9/00 W ,  G02B5/22

Fターム (33件)：

2H048CA04 ,  2H048CA12 ,  2H048CA13 ,  2H048CA19 ,  2H048CA23 ,  2H095BB25 ,  2H095BB27 ,  4E351BB01 ,  4E351BB33 ,  4E351CC06 ,  4E351DD04 ,  4E351DD05 ,  4E351DD06 ,  4E351DD17 ,  4E351GG20 ,  4F100AG00 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK16C ,  4F100AK25 ,  4F100AK69C ,  4F100AR00C ,  4F100AS00A ,  4F100AS00B ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JD03C ,  5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321BB44 ,  5E321GG05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• グラフトパターン形成方法及び導電性パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-131834   出願人：富士フイルムホールディングス株式会社

審査官引用 (3件)

• 導電性パターン形成方法、及びワイヤグリッド型偏光子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-170490   出願人：富士フイルム株式会社
• 酸素吸収性樹脂、酸素吸収性樹脂組成物及び酸素吸収性容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-313143   出願人：東洋製罐株式会社
• グラフトパターン形成方法及び導電性パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-131834   出願人：富士フイルムホールディングス株式会社