特許

J-GLOBAL ID：200903036720564866

グラフトパターン形成方法及び導電性パターン形成方法

発明者： 川村 浩一 ,  松下 泰明
出願人/特許権者： 富士フイルムホールディングス株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-131834
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350307
出願日： 2006年05月10日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】基板との密着性に優れ、所望の領域に種々の機能性材料を付与することで、安価な装置を用いて簡易に機能性パターンを形成しうるグラフトパターンの形成方法、及び、基板との密着性と導電性に優れた導電性パターンを安価な装置を用いて簡易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、360nm〜700nmの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。ここで形成されたグラフトポリマー生成領域に導電性を付与することで導電性パターンを形成しうる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、360nm〜700nmの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法。

IPC (8件)：

G03F 7/031 ,  H01L 21/28 ,  C23C 18/20 ,  C23C 18/30 ,  H01L 21/320 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  C08F 292/00

FI (8件)：

G03F7/031 ,  H01L21/28 A ,  C23C18/20 A ,  C23C18/30 ,  H01L21/88 B ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/40 521 ,  C08F292/00

Fターム (83件)：

2H025AA19 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC52 ,  2H025BH04 ,  2H025CA14 ,  2H025CA28 ,  2H025CA41 ,  2H025DA40 ,  2H025FA10 ,  2H025FA28 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA06 ,  2H096CA05 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096HA27 ,  2H096HA30 ,  2H096LA30 ,  4J026AC00 ,  4J026BA05 ,  4J026BA25 ,  4J026BA27 ,  4J026BA29 ,  4J026BA40 ,  4J026BA50 ,  4J026CA01 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4K022AA03 ,  4K022AA41 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022BA35 ,  4K022CA04 ,  4K022CA08 ,  4K022CA12 ,  4K022CA22 ,  4K022DA01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB06 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB13 ,  4M104BB29 ,  4M104BB30 ,  4M104BB36 ,  4M104DD21 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD53 ,  4M104HH08 ,  5F033GG04 ,  5F033HH00 ,  5F033HH03 ,  5F033HH07 ,  5F033HH08 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH15 ,  5F033HH16 ,  5F033HH17 ,  5F033HH32 ,  5F033HH33 ,  5F033HH35 ,  5F033PP26 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ01 ,  5F033XX13 ,  5F033XX34

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-338410   出願人：住友大阪セメント株式会社
• 基板上の銅配線形成方法及び銅配線の形成された基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-258477   出願人：富山日本電気株式会社, 奥野製薬工業株式会社, 大阪市
• 金属膜パターンおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-009400   出願人：シャープ株式会社
• 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-398048   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (3件)

• パターン形成方法、画像形成方法、微粒子吸着パターン形成方法、導電性パターン形成方法、パターン形成材料、及び平版印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-079009   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感光性平版印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-083103   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-237004   出願人：富士写真フイルム株式会社