特許
J-GLOBAL ID：200903062254871339

ブラックマトリックス基板およびその製造方法

発明者：
角野 友信

角野 友信 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 米田 潤三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-301620
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107678
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 樹脂タイプのブラックマトリックスを高い精度で、かつ、良好な密着性で備えたブラックマトリックス基板と、このようなブラックマトリックス基板の製造方法を提供する。【解決手段】 ブラックマトリックス基板を、透明基板上にブラックマトリックスとを備え、このブラックマトリックスを透明基板との界面近傍において含有量が最大となるように光反応開始剤を含有したものとし、このようなブラックマトリックス基板は、透明基板上に光反応開始剤を含有する薄膜を形成し、この薄膜上にブラックマトリックス用のネガ型の感光性樹脂組成物を塗布して感光性樹脂層を形成した後、感光性樹脂層をブラックマトリックス用のフォトマスクを介して露光し現像することにより製造する。
請求項（抜粋）：
透明基板と、該透明基板上に設けられたブラックマトリックスとを備え、ブラックマトリックスは光反応開始剤を含有するとともに、透明基板との界面近傍において光反応開始剤の含有量が最大となることを特徴とするブラックマトリックス基板。
IPC (4件)：
B05D 1/32 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335
FI (4件)：
B05D 1/32 Z ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335
Fターム (18件)：
2H042AA06 ,  2H042AA09 ,  2H042AA26 ,  2H048BA11 ,  2H048BA47 ,  2H048BB14 ,  2H048BB15 ,  2H048BB22 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB04 ,  2H091FB12 ,  2H091FB13 ,  2H091FC01 ,  2H091GA01 ,  2H091LA02 ,  2H091LA12
引用特許：
審査官引用 (8件)
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