スパッタ成膜装置および該スパッタ成膜装置を用いた成膜方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060937
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】スパッタ成膜において、コストの上昇や膜質の低下を招くことなく高スループットを達成する。【解決手段】スパッタ成膜装置は、減圧チャンバ1内に、ターゲット3を保持するターゲットカバー3a、複数の基板Wlを側面に保持する、多角形状の回転可能に設けられたカルーセル基板ホルダ2、および、金属製の複数の膜厚補正ガイド棒8を、対向するターゲット3と基板Wlとの間に配置されるように保持するガイド棒固定用治具8aを有する。ガイド棒固定用治具8aは、膜厚補正ガイド棒8を着脱可能に保持し、膜厚補正ガイド棒8の使用本数、および挿入位置、すなわち、配列間隔は、成膜条件に応じて任意に選択可能である。

請求項（抜粋）：

真空容器の内部に、薄膜が形成されるべき基板を保持して回転する基板保持部材と、ターゲットを保持するターゲット保持部材とを有するスパッタ成膜装置において、前記ターゲットと前記基板との間に、膜厚分布を制御するための複数の棒材が配置されるように前記各棒材を着脱可能に保持する棒材保持部材を有することを特徴とするスパッタ成膜装置。

Fターム (3件)：

4K029CA05 , 4K029DC00 , 4K029JA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平3-264667
特公平7-068614
スパッタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-267367 出願人：日本真空技術株式会社

審査官引用 (3件)

特開平3-264667
特公平7-068614
スパッタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-267367 出願人：日本真空技術株式会社

前のページに戻る