特許

J-GLOBAL ID：200903062272733490

洗浄液中のキレート剤の濃度管理方法

発明者： 林 則夫 ,  金子 敏男 ,  森永 均 ,  大村 恭弘
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264167
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100767
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 過酸化水素、アンモニア及びキレート剤を含む洗浄液でシリコンウェハーなどを洗浄するに際し、長時間にわたり安定した洗浄を行う。【解決手段】 過酸化水素、アンモニア及びキレート剤を含む洗浄液が収容されている洗浄装置に被洗浄物を順次装入して洗浄するに際し、装置内の洗浄液のキレート剤濃度を連続的又は間欠的に測定し、その測定結果に基づいて洗浄液中のキレート剤濃度が所定の範囲に入るように洗浄液にキレート剤を補給する。

請求項（抜粋）：

過酸化水素、アンモニア及びキレート剤を含む洗浄液が収容されている洗浄装置に被洗浄物を順次装入して洗浄するに際し、装置内の洗浄液のキレート剤濃度を連続的又は間欠的に測定し、その測定結果に基づいて洗浄液中のキレート剤濃度が所定の範囲に入るように洗浄液にキレート剤を補給することを特徴とする方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/04 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32

FI (5件)：

H01L 21/304 648 G ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/04 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32

Fターム (19件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA23 ,  4H003EB16 ,  4H003ED02 ,  4H003EE04 ,  4H003FA07