特許
J-GLOBAL ID：200903062292790180
α,β-不飽和カルボン酸基を有するオルガノ珪素化合物の製造法、該化合物を含有する組成物及び光学異方性層
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016143
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229985
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 高い選択性を伴って、架橋可能な、α,β-不飽和カルボン酸基を有するオルガノ珪素化合物の製造法。【解決手段】 第一工程で、珪素に直接結合した水素原子を有するオルガノ珪素化合物(H)を、触媒としての金属又は白金族の化合物の存在下に、一般式(2):Ω-O-C(O)-CRH-CH2-Z (2)のオレフィン系不飽和化合物(U)と反応させて、一般式(3):-A-O-C(O)-CRH-CH2-Z (3)で示される基を有するオルガノ珪素化合物(E)にし、第二工程で、オルガノ珪素化合物(E)から、化合物:H-Zを除去する。【効果】 この方法は、工業的規模で実現可能である。
請求項（抜粋）：
一般式(1):-A-O-C(O)-CR=CH2 (1)で示されるα,β-不飽和カルボン酸基を有するオルガノ珪素化合物(P)の製造法において、第一工程で、珪素に直接結合した水素原子を有するオルガノ珪素化合物(H)を、触媒としての金属又は白金族の化合物の存在下に、一般式(2): Ω-O-C(O)-CRH-CH2-Z (2)で示される、末端に二重結合又は三重結合を有するオレフィン系不飽和化合物(U)と反応させて、一般式(3): -A-O-C(O)-CRH-CH2-Z (3)で示される基を有するオルガノ珪素化合物(E)にし、第二工程で、オルガノ珪素化合物(E)から、化合物:H-Zを除去するが、この場合、Aは、二価の有機基を表し、Ωは、末端二重結合又は三重結合を有する一価の有機基を表し、Rは、H原子又はメチル基を表し、Zは、Cl、I、Br又は4-メチルトルオールスルホニルを表すことを特徴とする、オルガノ珪素化合物の製造法。
IPC (3件)：
C07F 7/08
, B01J 27/10
, C07B 61/00 300
C07F 7/08 J
, C07F 7/08 Y
, B01J 27/10 X
, C07B 61/00 300
