ハロゲン系排ガスの浄化剤及び浄化方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167888
公開番号（公開出願番号）：特開2000-157836
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】半導体製造プロセスからの排ガス中に含まれるフッ素、塩素、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、六フッ化タングステン、四塩化珪素等の有害なハロゲン系ガスを効率良く除去する浄化方法を開発する。【解決手段】ハロゲン系ガスを含む排ガスを、活性炭に蟻酸のアルカリ金属塩若しくは蟻酸のアルカリ土類金属塩、または活性炭に蟻酸のアルカリ金属塩若しくは蟻酸のアルカリ土類金属塩と共にアルカリ金属の水酸化物若しくはアルカリ土類金属の水酸化物を添着した浄化剤に接触させて浄化する。また、その前段に金属水酸化物又は金属酸化物を有効成分とするハロゲン系ガス浄化剤層を設け、さらに後段に金属酸化物と蟻酸ナトリウムを有効成分とする浄化剤層を設けて、該排ガスからハロゲン系ガスを除去する。

請求項（抜粋）：

活性炭に、蟻酸のアルカリ金属塩及び/又は蟻酸のアルカリ土類金属塩を添着した浄化剤であり、該蟻酸のアルカリ金属塩及び/又は蟻酸のアルカリ土類金属塩の添着量が、乾燥浄化剤中の重量割合として3〜18%であることを特徴とするハロゲン系排ガスの浄化剤。

IPC (3件)：

B01D 53/68 , B01D 53/34 ZAB , B01J 20/20

FI (4件)：

B01D 53/34 134 A , B01J 20/20 E , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 134 C

Fターム (45件)：

4D002AA17 , 4D002AA18 , 4D002AA19 , 4D002AA22 , 4D002AA23 , 4D002AA24 , 4D002AA26 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002CA07 , 4D002DA01 , 4D002DA04 , 4D002DA11 , 4D002DA12 , 4D002DA19 , 4D002DA23 , 4D002DA24 , 4D002DA41 , 4D002EA06 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GB01 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB08 , 4D002GB12 , 4D002HA03 , 4G066AA05B , 4G066AA13B , 4G066AA15B , 4G066AA16B , 4G066AA26B , 4G066AB07B , 4G066BA26 , 4G066CA31 , 4G066CA32 , 4G066DA02 , 4G066EA20 , 4G066FA03 , 4G066FA15 , 4G066FA21 , 4G066FA28 , 4G066FA34 , 4G066FA35 , 4G066FA37

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭60-068051
酸性ガス吸着用活性炭およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-323244 出願人：日本化学工業株式会社
有害ガスの浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-067421 出願人：日本パイオニクス株式会社

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審査官引用 (10件)

特開昭60-068051
特開昭60-068051
酸性ガス吸着用活性炭およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-323244 出願人：日本化学工業株式会社

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