特許
J-GLOBAL ID：200903062302423122
レーザ加工方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-240640
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071776
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザビームを用いて良好な形状に加工を行うこと。【構成】 表面を滑る易くするための滑剤であるSiO2粒子を含まないポリミドのシートにエキシマレーザビームを照射して加工したノズルの形状は、非常にスムーズな円形状をなしている。従って、ノズルの寸法精度が良く、インク滴の飛翔方向のばらつきを生じさせない。このノズルを使用したインク噴射装置では、印字品質が良好である。
請求項（抜粋）：
エキシマレーザビームを照射して加工を行うレーザ加工方法において、エキシマレーザビームを吸収するポリマー材料で形成され、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まない被加工物に、エキシマレーザビームを照射して加工を行うことを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, B23K 26/00 330
, B41J 2/135
