特許
J-GLOBAL ID：200903062342759174

絶対位置測長型エンコーダ

発明者：
草野 亘平

草野 亘平 について


出願人/特許権者：
株式会社ミツトヨ

株式会社ミツトヨ について


代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-161776
公開番号（公開出願番号）：特開2009-002702
出願日： 2007年06月19日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：
【課題】アブソリュートパターンのインクリメンタルパターンに対する位置ずれの許容度を大きくし、インクリメンタルパターンの微細化を可能とする。【解決手段】本発明に係る改良された絶対位置測長型エンコーダは、第1の周期で等間隔に形成された第1明暗パターンからなる第1インクリメンタルパターンを有する第1インクリメンタルトラック301と、絶対位置を表現したアブソリュートパターンを有するアブソリュートトラック302と、第1周期よりも大きい第2の周期で等間隔に形成された第2明暗パターンからなる第2インクリメンタルパターンを有する第2インクリメンタルトラック303とを形成されたスケール12と、このスケールに測定光を照射する光源11と、スケールで反射又は透過した前記測定光を受光する受光器14と、受光器の受光信号を処理して前記スケールの絶対位置を検出する信号処理回路20とを備えたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の周期で等間隔に形成された第1明暗パターンからなる第1インクリメンタルパターンを有する第1インクリメンタルトラックと、絶対位置を表現したアブソリュートパターンを有するアブソリュートトラックと、前記第1周期よりも大きい第2の周期で等間隔に形成された第2明暗パターンからなる第2インクリメンタルパターンを有する第2インクリメンタルトラックとを形成されたスケールと、 このスケールに測定光を照射する光源と、 前記スケールで反射又は透過した前記測定光を受光する受光器と、 前記受光器の受光信号を処理して前記スケールの絶対位置を検出する信号処理回路と を備えたことを特徴とする絶対位置測長型エンコーダ。
IPC (1件)：
G01D 5/36
FI (2件)：
G01D5/36 A ,  G01D5/36 Q
Fターム (14件)：
2F103BA37 ,  2F103CA01 ,  2F103DA01 ,  2F103DA06 ,  2F103DA12 ,  2F103EA04 ,  2F103EA15 ,  2F103EB16 ,  2F103EB32 ,  2F103EB33 ,  2F103ED27 ,  2F103ED37 ,  2F103FA05 ,  2F103FA15
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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