特許
J-GLOBAL ID：200903062351546485

可視光反応型チタン酸化物及びその製造方法並びに汚染物質の除去方法

発明者：
山下 芳樹

山下 芳樹 について


出願人/特許権者：
株式会社アルトラ

株式会社アルトラ について


代理人 (1件)： 小島 清路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404987
公開番号（公開出願番号）：特開2002-211928
出願日： 2000年12月30日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 高温の熱処理が全く不要であり、アナターゼ型の可視光反応型チタン酸化物を容易に製造する方法、この方法により製造され且つ汚染物質の除去(低減)効果に優れるこのチタン酸化物及び汚染物質の除去方法を提供する。【解決手段】 本可視光反応型チタン酸化物は、アナターゼ型であり、且つ可視光で感応する二酸化チタンである。W元素を含むこともできる。蛍光灯の光線下においてアンモニア等の汚染物質と接触することにより分解することができる。このチタン酸化物は、チタンアルコキサイド、有機溶媒及び酸を含む溶液を加水分解させ、その後得られたゲルを150°C以下(特に15〜120°C)で乾燥させて製造される。可視光線(蛍光灯等)下において上記酸化物と汚染物質とを接触させることにより汚染物質(アンモニア、窒素酸化物、ホルムアルデヒド等)を分解させることができる。
請求項（抜粋）：
アナターゼ型であり、且つ可視光で感応する二酸化チタンであることを特徴とする可視光反応型チタン酸化物。
IPC (8件)：
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/18 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 35/02 ZAB ,  C02F 1/30
FI (8件)：
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/18 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/30 M ,  B01J 35/02 ZAB J ,  C02F 1/30 ,  B01D 53/36 J
Fターム (53件)：
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080CC07 ,  4C080CC08 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ20 ,  4D037AA00 ,  4D037AB12 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D048AA06 ,  4D048AA08 ,  4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA27X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048CC38 ,  4D048CC40 ,  4D048EA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G047CD07 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FB08 ,  4G069FB57 ,  4G069FC07
引用特許：
審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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