特許
J-GLOBAL ID：200903062372472643
薄膜構造体及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154889
公開番号（公開出願番号）：特開2000-345320
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：
【要約】【課題】 低温の熱処理で光触媒性薄膜を得ることができる薄膜構造体を得る。【解決手段】 チェンバ本体1内の基板ホルダ2に基材3を装着し、水タンク13から水蒸気をチェンバ本体1内に導入する。この状態で、チタン酸化物を基材3の表面にスパッタ蒸着することで、基材3の上に水酸基を含むチタニアを主成分とする薄膜構造体を得る。そして、これを熱処理することで光触媒性薄膜を得る。この場合の熱処理は200°C以上という低温でよい。
請求項（抜粋）：
チタン酸化物を主成分とし、基板上に形成した薄膜であって、その薄膜中に水を水酸基として含有させたことを特徴とする薄膜構造体。
Fターム (12件)：
4K029BA48
, 4K029BA50
, 4K029BB08
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC16
, 4K029DC35
, 4K029EA00
, 4K029JA01
