特許
J-GLOBAL ID：200903062418653532

露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法

発明者：
沖田 晋一

沖田 晋一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-126383
公開番号（公開出願番号）：特開2007-299918
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：
【課題】コストの大幅な上昇を招くことなく、スループット及び露光精度を向上させることができる露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法を提供する。【解決手段】露光装置EXは、被露光体としてのウェハWに転写すべきパターンを有する回転可能なレチクルRと、ウェハWを保持してXY面内で移動可能なウェハステージWSTとを備えている。レチクルRは、例えば円筒形状又は円柱形状等の筒形状であり、その周上にウェハWに転写すべきパターンが形成されている。照明光学系ILSによってレチクルR上の異なる照明領域にそれぞれ露光光ELを照射し、照明領域の各々を介した露光光を投影光学系PLでウェハW上に導くことにより、ウェハW上には異なるパターンが同時に二重露光される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1露光光と第2露光光とで被露光体を多重露光する露光装置において、 前記被露光体に転写すべきパターンが形成されたマスク上の第1領域に前記第1露光光を照射するとともに、前記マスク上で前記第1領域と異なる第2領域に第2露光光を照射する照明光学系と、 前記マスク上の前記第1領域を介した第1露光光と、前記第2領域を介した第2露光光とを前記被露光体へ導く投影光学系と を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (12件)：
5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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