特許
J-GLOBAL ID：200903062439245213

処理液塗布装置

発明者：
上山 勉

上山 勉 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126607
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328513
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 処理液塗布装置において、ノズルと基板とのギャップをばらつきを減らし、処理液塗布後の膜厚変動を減らす。【構成】 レジスト液塗布装置1は、角型基板Wの表面にレジスト液を塗布するための装置であって、基板保持部とノズル20とギャップセンサ27とギャップ調整機構33とを備えている。基板保持部は、角型基板Wを保持する保持板5を有する。ノズル20は、保持板5に保持された角型基板Wの表面に沿って相対移動しながら基板表面にレジスト液を供給する。ギャップセンサ27は、相対移動するノズル20と角型基板Wの表面との間隔を検出する。ギャップ調整機構33は、ギャップセンサ27の検出結果によりノズル20を角型基板W表面に対して相対的に接近、離反させて間隔を調整する。
請求項（抜粋）：
基板の表面に所定の処理液を塗布するための処理液塗布装置であって、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板表面に沿う方向に相対移動しながら前記基板表面に処理液を供給する処理液供給部を有する処理液供給手段と、前記相対移動する処理液供給部と前記基板表面との間隔を検出するギャップ検出手段と、前記ギャップ検出手段の検出結果により前記処理液供給部を前記基板表面に対して相対的に接近、離反させて前記間隔を調整するギャップ制御手段と、を備えた処理液塗布装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08 ,  B05C 5/02 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM