特許

J-GLOBAL ID：200903062515515977

上層膜用組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 草開 一憲 ,  夏目 紀浩 ,  杉江 紀彦
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (3件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  菅野 重慶
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-128928
公開番号（公開出願番号）：特開2009-275155
出願日： 2008年05月15日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】ウォーターマーク欠陥やBlob欠陥等を抑制することができる上層膜用組成物を提供すること。【解決手段】一般式(1)及び(2)で表される単位のいずれか、並びにそれ以外の特定の単位を有する重合体(A)を含む重合体と溶剤とを含有する上層膜用組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される繰り返し単位及び下記一般式(2)で表される繰り返し単位の少なくともいずれか、並びに 下記一般式(3-1)で表される繰り返し単位、下記一般式(3-2)で表される繰り返し単位、及び下記一般式(3-3)で表される繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも1種、を有する重合体(A)、を含む重合体成分と、 溶剤と、を含有する上層膜用組成物。

IPC (6件)：

C08F 220/38 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/11 ,  C08L 33/16

FI (7件)：

C08F220/38 ,  H01L21/30 575 ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/11 501 ,  C08L33/16

Fターム (53件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025DA02 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  4J002BG01X ,  4J002BG08W ,  4J002BG08X ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA56P ,  4J100BB12P ,  4J100BC01P ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100EA01 ,  4J100JA38 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046DA07 ,  5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-341445   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (1件)

• パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-157873   出願人：JSR株式会社