パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小島清路 , 萩野義昇 , 谷口直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-157873
公開番号（公開出願番号）：特開2007-328060
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】電子線、X線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。【解決手段】本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。また、本感放射線性樹脂組成物は、樹脂成分として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生基を含有する繰り返し単位と、非酸解離性繰り返し単位とからなる酸発生基含有樹脂のみを含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 212/14 , C08F 220/38 , C08F 220/58

FI (5件)：

G03F7/039 501 , H01L21/30 502R , C08F212/14 , C08F220/38 , C08F220/58

Fターム (46件)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025EA10 , 2H025FA17 , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ01Q , 4J100AJ02Q , 4J100AJ08Q , 4J100AJ09Q , 4J100AK31Q , 4J100AK32Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL66Q , 4J100AM17Q , 4J100AM19Q , 4J100AM21P , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100BA56P , 4J100BB12P , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC28Q , 4J100BC43P , 4J100BD12P , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (7件)

ポジ型感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-235290 出願人：東レ株式会社
末端に非共有電子対を有する官能基を導入した高分子化合物、その製造方法及び該高分子化合物を使用したポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-186872 出願人：科学技術振興事業団
微細パターン形成材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-246324 出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社

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審査官引用 (7件)

感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-141965 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024011 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開昭63-026653

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