特許
J-GLOBAL ID：200903062549690719
射出成形機の温度制御方法および温度制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 嘉昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-160651
公開番号（公開出願番号）：特開平10-337763
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：
【要約】【課題】 局部的な過昇温部の発生がなく、しかも設定通りの軸方向の温度パターンが得られる射出成形機の温度制御方法を提供する。【解決手段】 射出成形機(1)の加熱シリンダ(2)が軸方向に複数個の温度制御ゾーン(K1、K2、...)に分割され、分割された温度制御ゾーン(K1)の一方が低温部(7)に隣接し、他方が高温の第2の温度制御ゾーン(K2)に隣接している第1の温度制御ゾーン(K1)に設けられている第1、2の加熱ヒータ(H1-1、H1-2)を制御するとき、第1の加熱ヒータ(H1-1)は、第1の温度制御ゾーン(K1)に設けられている温度センサ(S1)の検出温度{y(k)}によるフイードバック制御により得られる主操作量{u11(k)}で制御し、第2の加熱ヒータ(H1-2)は、主操作量{u11(k)}と操作量上限値または任意の設定値(Umax)との偏差である余裕量算出値{Umaxーu11(k)}を、主操作量{u11(k)}から減じた補償操作量{u12(k)}で制御する。
請求項（抜粋）：
射出成形機(1)の加熱シリンダ(2)が軸方向に複数個の温度制御ゾーン(K1、K2、...)に分割され、分割された各温度制御ゾーンに対応して複数個設けられている加熱手段(H1-1、H1-2)を制御する、射出成形機の温度制御方法において、一方が、冷却フランジの低温部(7)に隣接し、他方が加熱手段等により加熱される高温部(K2)に隣接している温度制御ゾーン(K1)に設けられている加熱手段(H1-1、H1-2)を制御するとき、前記低温部(7)に隣接している加熱手段(H1-1)は、前記温度制御ゾーン(K1)に設けられている温度センサ(S1)の検出温度{y(k)}によるフイードバック制御により得られる主操作量{u11(k)}で制御し、前記高温部(K2)に隣接している加熱手段(H1-2)は、前記主操作量{u11(k)}と、操作量上限値、任意の設定値等(Umax)との偏差である余裕量算出値{Umaxーu11(k)}を、前記主操作量{u11(k)}から減じた補償操作量{u12(k)}で制御することを特徴とする射出成形機の温度制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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