特許

J-GLOBAL ID：200903062551908101

成膜装置中の有害物処理方法

発明者： 大嶋 則和
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093342
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256178
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】V属、VI属の有害物質を蒸着した成膜装置の効率的な洗浄方法を提供する。【解決手段】成膜装置1中に微量の水蒸気を導入し、マイクロ波発振管6にてマイクロ波を発振させ装置内に導入することで有害物を水素化した後、水素化有害物を水に溶解させる。その際、マイクロ波発振と同時に紫外光8を照射するとより効果的である。

請求項（抜粋）：

成膜装置に付着したV属、VI属有害物質を除去する方法であって、前記成膜装置中に微量の水蒸気を導入し、マイクロ波を発振させ前記成膜装置内に導入することにより、前記有害物を水素化した後、この水素化有害物を水に溶解させることを特徴とする成膜装置中の有害物処理方法。

IPC (6件)：

C23G 5/00 ,  C23C 14/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

C23G 5/00 ,  C23C 14/00 B ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 K ,  H01L 21/304 341 V ,  H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 成膜装置中の有害物除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-135653   出願人：日本電気株式会社
• 特公平6-092639
  
• 特開平2-190489