露光装置および方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-014778
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186073
出願日： 1996年01月04日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】より効率的かつ低コストで半導体チップが製造できるような半導体露光装置を提供する。【解決手段】パルス光1で原板を照明し、原板と基板を移動させながら原板のパターンを基板上に露光転写するスキャン型の露光装置において、各パルス光発光時の露光状態を検出する手段12,15と、前記露光状態に基づいて露光不良の領域があるか否かを判定する情報処理手段104とを具備する。

請求項（抜粋）：

パルス光で原板を照明し、原板と基板を移動させながら原板のパターンを基板上に露光転写するスキャン型の露光装置において、各パルス光発光時の露光状態を検出する手段と、前記露光状態に基づいて露光不良の領域があるか否かを判定する情報処理手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505

FI (5件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 516 C , H01L 21/30 525 X

引用特許：

審査官引用 (6件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-138489 出願人：株式会社ニコン
露光制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-035248 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-053724

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