特許
J-GLOBAL ID：200903045055830150

走査型露光装置

発明者：
村田 実

村田 実 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266917
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115799
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 走査型露光装置において同期制御誤差が発生しても、後の工程における同期制御誤差の影響を軽減する。【解決手段】 レチクルステージ11の駆動を制御するレチクルステージコントローラ31R、ウエハWの焦点位置を制御するフォーカスコントローラ32、可動ブラインド8の開口形状を制御するブラインドコントローラ33、及びウエハW上の照度を制御する露光コントローラ34を設ける。これらの各コントローラでは各制御対象の同期制御誤差を算出し、その算出結果をそれぞれ上位コントローラである主制御系13に供給する。主制御系13は、同期制御誤差が許容範囲を越えているショット領域を不良ショットとして警報装置36を介して表示する。その上のレイヤへの露光工程では、一例としてその不良ショットは露光対象から除外される。
請求項（抜粋）：
転写用パターンの形成されたマスクを走査するためのマスクステージと、感光性の基板を走査するための基板ステージとを有し、所定の照明光のもとで前記マスクのパターンの一部を前記基板上に投射した状態で、前記2つのステージを同期して走査することにより前記基板上に前記マスクのパターンを逐次露光する走査型露光装置において、前記マスクステージ及び前記基板ステージを同期して走査する際の同期制御誤差を検出する誤差検出手段と、前記誤差検出手段により検出された同期制御誤差が所定の許容値を越えたときの前記基板上の露光位置を記憶する記憶手段と、を設けたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (6件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 527
引用特許：
審査官引用 (7件)
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