特許

J-GLOBAL ID：200903062559919196

多層膜反射鏡、その再生方法及び露光装置

発明者： 神高 典明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-335370
公開番号（公開出願番号）：特開2005-098930
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 多層膜反射鏡を作り直す場合に、基板表面に影響を与えることなく、多層膜を除去することのできる多層膜反射鏡等を提供する。 【解決手段】 シリコン基板2の表面は、回転放物面形状に高精度で加工されている。シリコン基板2の表面には、下地層1が成膜されており、下地層1の上にMo/Si多層膜3が成膜されている。Mo/Si多層膜3の成膜されている領域の面積は、銀薄膜1の成膜領域よりも狭くなっており、銀薄膜1の一部がMo/Si多層膜3から露出している。下地層1の露出している部分には、粘着材が塗布されたポリイミドテープ4が貼り付けられている(図1には一部のみが示されている)。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板と、 酸によって除去又は剥離が可能な物質からなり、該基板の表面に成膜された下地層と、 該下地層の上に成膜された反射多層膜と、 を具備することを特徴とする多層膜反射鏡。

IPC (5件)：

G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (9件)：

G21K1/06 B ,  G21K1/06 D ,  G02B5/08 A ,  G02B5/10 C ,  G03F7/20 503 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 517 ,  H01L21/30 531A

Fターム (17件)：

2H042DA01 ,  2H042DA12 ,  2H042DA14 ,  2H042DB02 ,  2H042DC02 ,  2H042DD06 ,  2H042DE00 ,  2H042DE07 ,  2H097AA02 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127600   出願人：株式会社ニコン